PLAZMA KIMYOSI, plazmokimyo — fizikkimyoning past t-rali plazmadagi fizikkimyoviy jarayonlarni, undagi reaksiyalar kinetikasi va me-xanizmini, plazmokimyoviy texnologiya asoslarini oʻrganuvchi boʻlimi. Fizika nuqtayi nazaridan Plazma kimyosida qoʻlla-nadigan plazma (termoyadro plazmasiga nisbatan) past t-rali (103—105 K, ionlanish darajasi 10~6—10^ʻ), kimyo va kimyoviy texnologiya nuqtayi nazaridan esa eng yuqori t-rali hisoblanadi. Plazma kimyoda endotermik reaksiyalarni amalga oshirish yoki issiqqa chidamli materiallar taʼsir etuvchi yuqori t-ra elitkichlari sifatida ishlatiladiNeytral holatda mavjud boʻlmaydigan koʻpgina molekulalar ionlashgan xrlda plazmada boʻla oladi. Plazma kimyosining texnikada qoʻllanishi plazma oqimining yuqori t-raga ega boʻlishiga asoslangan. Plazma oqimi elektr yoyli yoki yuqori chastotali induksion plazmatronlarda olinadi.
Plazma kimyosining eng istiqbolli texnik jarayoni atmosfera azotini toʻgʻridan-toʻgʻri oksidlash, metan va b. uglevodorodlarni elektrokrekinglab atsetilen olishdan iborat. Etilen va b. olefinlarni, tetraftoretilen, gidrazin, ditsian, vodorod sianid, trixlorsilan, gidroksilamin, vodorod perok-sid, formaldegid olish maqsadida ham Plazma kimyosi jarayonlari oʻrganiladi. Plazma kimyosining maxsus boʻlimi — plazma metal-lurgiyasida vanadiy, nikel, te-mir, molibden, bor va h. k. ning oksidlari va galogenidlariga vodorod plazmasi taʼsir ettirib, sof elementlar ajratib olinadi.
Metallar sirtida olovbardosh oksid pardalar hosil qilish yoki polimerlar sirtini tozalashda kislorod plazmasi oqimi qoʻllanadi.
Plazma kimyosi plazma nurlanganda kechadigan fotokimyoviy jarayonlarni ham oʻz ichiga oladi. Bunga ozonning olinishi misol boʻla oladi, chunki bunda asosiy jarayon kislorod molekulalarini ultrabinafsha nurlar taʼsirida dissotsiatsiyalashga asoslangan.
Ad.: Polak L. S. [i dr. ]. Ximiya plazmы, Novosibirsk, 1991.