FTOROPLASTLAR — tarkibida ftor boʻlgan plastmassalar. Ftor hosilali etilen gomopolimerlari va ularning boshqa ftor hosilali olefinlari; olefinlar, perftoralkilvinil efirlari bilan boʻlgan sopolimerlari. Politetraftoretilen va politriftorxloretilen katta ahamiyatga ega. Bu polimerlar oq rangli, kimyoviy jihatdan chidamli, issiq va sovuqqa bardoshli, yonmaydi.
Politetraftoretilen [—SGʻ2 — SGʻ2—]„ mol. m. 5105—2106, zichligi 2,2 g/sm3 (20°da). Kimyoviy chidamliligi jihatdan platina, kvars, grafit va barcha sintetik materiallardan ustun turadi; kuchli oksidlovchilar, qaytaruvchilar, kislotalar, ishqorlar, organik erituvchilarga chidamli. Suvda, yonilgʻi va moylarda aynimaydi. Tropik iqlimga, zamburuglarga bardoshli. —269°gacha elastikligini saqlaydi, 415°da parchalanadi.
Politriftorxloretilen [SGʻ2SGʻS1] „, mol. m. 56000360000, zichligi 2,09— 2,16 g/sm3 (25°da). Oksidlovchilar, ishqorlar, kuchli kislotalar taʼsiriga chidamli, efirlar va galogen hosilali uglevodorodlarda boʻkadi, aromatik uglevodorodlarda eriydi. 210°da suyuklanadi, 270°da parchalanadi. Qoʻllanish trasi —196° dan +190° gacha. Tetraftoretilenning geksaftorpropilen bn, shuningdek, perftorpropilvinil efir b-n boʻlgan sopolimeri yuqori termik va ishlanuvchanlik xususiyatiga ega. Tetraftoretilenning perftorolefinlar b-n boʻlgan sulfoguruxli sopolimeri issiqbardosh, kimyoviy jihatdan chidamli kation almashtiruvchi smola. U kislotaliligi jihatdan boshqa barcha qattiq ion almashtiruvchi smolalaryat ustun turadi. Yonilgʻi elementlari uchun membrana sifatida ishlatiladi.
Ftoroplastlar radikali polimerlanish asosida yoki tegishli monomerlarni sopolimerlab olinadi. Ftoroplastlardan plyonkalar, transportyor tasmalari, antifriksion materiallar, tola va toʻqima, lab. idishlari, kimyoviy chidamli qoplamalar, metalloplastlar ishlanadi. Ftoroplastlardan yasalgan mahsulotlar elektr, radio va raketa texnikasida, mashinasozlikda, kimyo va oziq-ovqat sanoatida hamda tibbiyotda ishlatiladi.
Ftoroplastlar MDH mamlakatlarida ftorlon, AQSHda esa teflon nomida ishlab chiqariladi.